• Industrielt MOCVD-system
    Nice-Tech CV600/CV700-serien er high-masse-produktions-MOCVD-enheder til sammensat halvlederepitaksial vækst, der anvender proprietær planetarisk-satellit-dobbeltrotationsteknologi for at realisere multi-wafervækst med ensartethed på...
    Se mere
  • Standard MOCVD-system
    Dejligt-Tech MC150/MC200/MC300-serien MOCVD-udstyr anvender den tæt-koblede lodrette brusehovedgasindsprøjtningsmodel med iboende fordele ved epitaksial ensartethed via forskudte kildegasdyser med høj-densitet og kontrollerbar lille...
    Se mere
  • IBD system
    Dette Ion Beam Deposition Equipment er et tyndfilmaflejringssystem med høj-præcision designet til fremstilling af metaltråd og ohmske kontakt tynde film i fremstilling af infrarøde enheder.
    Se mere
  • Dobbelt-kammermagnetronforstøvningssystem
    Dette dobbeltkammermagnetronforstøvningssystem er bygget specielt til fremstilling af infrarøde brændplansenheder. Dens hovedfunktion er at afsætte ZnS/CdTe sammensatte passiveringsfilm på HgCdTe epitaksiale lag, et kritisk trin i...
    Se mere
  • Lodret LPE-system
    Denne lodrette væskefase-epitaksiovn er bygget til den flydende-fase-epitaksiale vækst af HgCdTe-tynd-filmmaterialer med fokus på at producere As-doterede P-materialer, der anvendes i P-på-N-strukturdetektorer.
    Se mere
  • Horisontalt LPE-system
    Horizontal Liquid Phase Epitaxy Furnace er et dedikeret stykke procesudstyr bygget til væskefase epitaksial vækst af HgCdTe tynde film.
    Se mere
  • Carbon Magnetron Sputtering System
    Vores kulfilmforstøvningsudstyr er et dedikeret system, der er bygget til at afsætte kulfilmbeskyttende lag med-høj temperatur på SiC-enheder. Den bruger en klyngearkitektur, der kan konfigureres med flere proceskamre og leveres med...
    Se mere
  • GaN-MOCVD
    GaN-MOCVD er et specialiseret epitaksialvækstudstyr designet til aflejring af høj-kvalitets galliumnitrid (GaN) og relaterede sammensatte halvledertynde film.
    Se mere
  • MOCVD
    Vores metal-organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)-udstyr er et kerneproduktionsværktøj dedikeret til aflejring af epitaksiale materialer af-kvalitet. Den er professionelt designet til fremstilling af galliumarsenid (GaAs),...
    Se mere
  • Lodret LPCVD-system
    Den vertikale LPCVD TEOS/Poly/SiN er et kemisk dampaflejringssystem med lavt-tryk til halvlederfremstilling. Det bruges til at deponere tynde-poly-, TEOS-, SiN- og HTO-film af høj kvalitet.
    Se mere
  • Magnetron Sputtering System
    Dette magnetronforstøvningssystem er bygget til metal tyndfilm aflejring i halvlederfremstilling. Det er meget udbredt i integrerede kredsløb, strømenheder og avanceret emballage.
    Se mere
  • MBE system
    Vores Molecular Beam Epitaxy (MBE)-system er et epitaksialvækstudstyr med høj-præcision, dedikeret til sammensatte halvledermaterialer, især ultra-tynde heterostrukturmaterialer. Det bruges hovedsageligt til fremstilling af...
    Se mere

Som en af ​​de mest professionelle producenter og leverandører af tyndfilmaflejringsudstyr i Kina er vi kendetegnet ved kvalitetsprodukter og god pris. Du kan være sikker på at købe skræddersyet tyndfilmaflejringsudstyr fra vores fabrik. Kontakt os nu for tilbud og prisliste.

Send forespørgsel